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国产EDA、芯片设计、封测都实现了3nm只等ENG体育平台UV光刻机了?

发布时间:2024-07-14 11:26浏览次数: 来源于:网络

  NG体育近日,有媒体报道称,国产EDA公司的产品,已经通过了3nm工艺技术的认证,可以用于3nm芯片的设计了。

  事实上,这个消息并不意外,因为早在去年就已经有国产EDA厂商表示,在一些关键流程上,实现了3nm,所以今年再说通过3nm工艺技术认证,就顺理成章了。

  事实上,不只是EDA这一块,目前在芯片设计、封测这两大关键环节上,我们都已经拥有了3nm的技术,真正缺的是制造,只要制造能跟上,3nm芯片早就不是问题了。

  先说芯片设计这一块,早在2020年华为海思就已经设计出了5nm的芯片麒麟9000系列,并于当年由台积电代工,在2020年的时候,麒麟9000系列就不比高通、苹果的5nm芯片差。

  如今4年过去了,高通、苹果、联发科都进入了3nm,华为海思想都不用想,肯定进入了3nm,只是找不到代工厂而已。

  另外除了海思之外,国内还有很多做芯片设计的,有些在设计CPU、有些是GPU,还有些ASIC芯片,三星第一代3nm芯片的客户,就是国内的某矿机公司,也是3nm工艺的。

  再看封测这一块,说真的封测没太多技术门槛,中国也很强的,一直和世界顶尖水平是同步的,早在4年前的2020年,中国大陆的封测企业就已经在封测5nm芯片了。

  而在去年的时候NG体育平台,就有封测企业表示已经实现了3nm芯片的封测,所以现在封测3nm早就不是问题了,也许随着intel的2nm芯片出现,封测2nm芯片都有可能。

  所以说,我们缺的其实还是制造,目前在制造领域,公开的技术是14nm,而不公开的技术是多少,大家依据麒麟9000S、麒麟9010就能够猜测的出来。

  可能很多人会说了NG体育平台NG体育平台,我们其实差的是光刻机,只要有EUV光刻机,那么5nm、3nm芯片就也能制造了,其实差的不只是光刻机。

  制造5nm、3nm的芯片需要几百种半导体设备,这些设备都需要达到5nm、3nm的水平的,目前国内的半导体设备,更多的还是在14nm、28nm阶段。

  所以不仅仅是光刻机的问题,我们在整个半导体设备领域,还有很多课要补,得慢慢来才行,不能急于求成,更何况能制造7nm芯片就已经很好了。返回搜狐NG体育平台NG体育平台,查看更多

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